UV光源紫外線光清洗燈技術的運用原理分析
發(fā)布日期：2018-01-31 瀏覽次數：
紫外線光清洗燈的技術是利用有機化合物的光敏氧化作用，達到去除黏附在材料表面上的有機物質。
使用紫外線光清洗燈技術清洗后的材料表面可以達到“原子清潔度”的指標。通俗詳細地講解就是發(fā)射波長為185nm和254nm光波的UV光源，是具有相當高的能量，當這些光子作用到被清洗物體表面時，由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。
空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光 同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的，在它作用下，物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。
目前國外廣泛使用的清洗方法是UV紫外光清洗，它一方面能避免由于使用有機溶劑造成的污染，同時能夠將清洗過程縮短。而用普通石英生產的低壓汞的洗凈效果遠遠小于用合成石英制成的低壓汞燈。
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